週次 |
日期 |
單元主題 |
第1週 |
2/20/2012 |
Introduction and Process Overview |
第3週 |
3/5/2012 |
Ch 3: Semiconductor Physics -- Part 1 |
第4週 |
3/12/2012 |
Ch 3: Semiconductor Physics -- Part 1 |
第5週 |
3/19/2012 |
Ch 3: Semiconductor Physics -- Part 2 |
第6週 |
3/26/2012 |
Ch 3: Semiconductor Physics -- Part 3 |
第7週 |
4/2/2012 |
Ch 3: Semiconductor Physics -- Part 3 |
第8週 |
4/9/2012 |
Ch 4: Si Wafers |
第10週 |
4/23/2012 |
Midterm Exam |
第11週 |
4/30/2012 |
Ch 5: Oxidation and Diffusion |
第12週 |
5/7/2012 |
Ch. 6 Lithography |
第13週 |
5/14/2012 |
Ch 7 Plasma &
Special Topic: Vacuum Technique |
第14週 |
5/21/2012 |
Ch 7: Plasma and Ch 8: Ion Implantation |
第15週 |
5/28/2012 |
Ch 9: Etching |
第16週 |
6/4/2012 |
Ch10 CVD, Dielectric; Ch11 Metallization |
第17週 |
6/11/2012 |
Ch12 CMP and Special Tech |