課程資訊
課程名稱
半導體工程
Semiconductor Engineering 
開課學期
108-2 
授課對象
電機資訊學院  電機工程學系  
授課教師
林致廷 
課號
EE4032 
課程識別碼
901 37000 
班次
 
學分
3.0 
全/半年
半年 
必/選修
選修 
上課時間
星期五2,3,4(9:10~12:10) 
上課地點
電二229 
備註
總人數上限:80人 
Ceiba 課程網頁
http://ceiba.ntu.edu.tw/1082EE4032_ 
課程簡介影片
 
核心能力關聯
核心能力與課程規劃關聯圖
課程大綱
為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
課程概述

為使學生能夠對於現今半導體製程技術有進一步的了解, 本課程將以製作標準MOSFET所需用到的技術為基準, 介紹相關知識與理論. 課程內容可以簡述如下:
1. Semiconductor Basics
2. Wafer Manufacturing
3. Thermal Process
4. Photolithography
5. Plasma Basics
6. Ion Implantation
7. Etch
8. Chemical Vapor Deposition
9. Metallization
10. Chemical Mechanical Polish 

課程目標
1. 使學生了解標準半導體製程技術之知識與理論基礎
2. 使學生了解電子元件製作的方法 
課程要求
1. 作業 30%
2. 期中考 30%
3. 期末考 40% 
Office Hours
 
參考書目
教科書: Hong Xiao, “Introduction to Semiconductor Manufacturing Technology”, 2001, Prentice Hall
參考書目: 1. James D. Plummer, "Silicon VLSI Technology, Fundamentals, Practice& Modeling," Prentice Hall
2. Michael Quirk, "Semiconductor Manufacturing Technology," Pearson Prentice Hall 
指定閱讀
待補 
評量方式
(僅供參考)
   
課程進度
週次
日期
單元主題
第1週
3/06  Introduction 
第2週
3/13  Cleanroom Visit 
第3週
3/20  Semiconductor Basics 
第4週
3/27  Wafer Manufacturing 
第5週
4/03  Spring Break 
第6週
4/10  thermal process 
第7週
4/17  thermal process 
第8週
4/24  photolithography 
第9週
5/01  photolithography 
第10週
5/08  Plasma 
第11週
5/15  Ion Implantation 
第12週
5/22  Etch 
第13週
5/29  Etch 
第14週
6/05  Deposition 
第15週
6/12  Deposition 
第16週
6/19  Finals