課程名稱 |
積體電路工程 INTEGRATED CIRCUIT TECHNOLOGY |
開課學期 |
96-1 |
授課對象 |
電機資訊學院 電子工程學研究所 |
授課教師 |
郭宇軒 |
課號 |
EE5114 |
課程識別碼 |
921 U7120 |
班次 |
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學分 |
3 |
全/半年 |
半年 |
必/選修 |
選修 |
上課時間 |
星期五2,3,4(9:10~12:10) |
上課地點 |
電二143 |
備註 |
奈米電子組碩士生在學期間三選一必修核心課程之ㄧ。 總人數上限:60人 |
Ceiba 課程網頁 |
http://ceiba.ntu.edu.tw/961_Si |
課程簡介影片 |
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核心能力關聯 |
本課程尚未建立核心能力關連 |
課程大綱
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為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
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課程概述 |
本課程將介紹積體電路製程,涵蓋製程各階段之基礎理論與技術、設備原理與應用,並著重製程整合與前瞻性元件製程發展之配合。內容以CMOS之矽製程為主軸,並包含各種不同元件之製程探討。
內容包含:
(1) Introduction
(2) Crystal & Wafer
(3) Oxidation
(4) Diffusion
(5) Ion Implantation
(6) Epitaxy and Thin Film Deposition
(7) Etching
(8) Lithography
(9) Back-End Technology
(10) Characterization, Measurement, and Testing
(11) Silicon-Based Process Integration
(12) Packaging
(13) Technology Trend |
課程目標 |
建立對積體電路製程之知識基礎,了解各製程步驟之特性、用途、限制,以及各步驟間相容或相斥之關係,探討製程整合之方法及考量因素,以用於先進元件與製程之研究發展。 |
課程要求 |
無,但建議具備基礎電子學與半導體之知識。 |
預期每週課後學習時數 |
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Office Hours |
另約時間 備註: Please e-mail me to arrange office meeting. |
指定閱讀 |
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參考書目 |
課程講義 |
評量方式 (僅供參考) |
No. |
項目 |
百分比 |
說明 |
1. |
期中考 |
40% |
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2. |
期末考 |
40% |
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3. |
作業 |
20% |
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週次 |
日期 |
單元主題 |
第1週 |
09/21 |
Introduction |
第2週 |
09/28 |
Crystal and Wafer |
第3週 |
10/05 |
Oxidation |
第4週 |
10/12 |
Diffusion (Part I) |
第5週 |
10/19 |
DIffusion (Part II) |
第6週 |
10/26 |
Ion Implantation |
第7週 |
11/02 |
Epitaxy |
第8週 |
11/09 |
Epitaxy |
第9週 |
11/16 |
Deposition |
第10週 |
11/23 |
Midterm (期中考) |
第11週 |
11/30 |
Deposition |
第12週 |
12/07 |
Etching |
第13週 |
12/14 |
Lithography |
第14週 |
12/21 |
Backend Technology |
第15週 |
12/28 |
Measurement and Characterization |
第16週 |
1/04 |
Process Integration |
第17週 |
1/11 |
Packaging |