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課程名稱 |
光電材料分析技術
Analysis Techniques of Optoelectronics Materials |
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開課學期 |
102-1 |
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授課對象 |
電機資訊學院 光電工程學研究所 |
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授課教師 |
何志浩 |
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課號 |
OE5045 |
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課程識別碼 |
941 U0550 |
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班次 |
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學分 |
3 |
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全/半年 |
半年 |
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必/選修 |
選修 |
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上課時間 |
星期四6,7,8(13:20~16:20) |
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上課地點 |
博理103 |
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備註 |
總人數上限：40人 |
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Ceiba 課程網頁 |
http://ceiba.ntu.edu.tw/1021ATOM |
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課程簡介影片 |
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核心能力關聯 |
核心能力與課程規劃關聯圖 |
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課程大綱
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為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
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課程概述 |
為瞭解光電材料，利用材料分析技術，在奈米尺度上分析具奈米結構與材料的組成、相、微結構，與光譜等分析，並藉此瞭解與製程間的相互關係，更進一步探討其新現象與特性，作為新的工程應用參考。課程目標為瞭解光電材料分析技術之儀器操作原理與分析方法。授課內容包括，
1. 介紹(Introduction)
2. 材料的晶體結構(Crystal structure of materials)
3. 晶體結構分析技術與應力分析技術(X-ray analysis)
4. 顯微結構分析、缺陷分析、組成分析與表面形貌分析(Electron microscopy: SEM and TEM)
5. 表面及界面分析(1.Auger electron spectroscopy, 2.X-ray photoelectron spectroscopy, 3.Secondary ion mass spectroscopy, and 4.Scanning probe microscopy
6光電材料鍵結、結晶結構與應變力分析技術(Raman scattering)
7.光電材料的光激發光譜分析(Photoluminescence)
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課程目標 |
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課程要求 |
成績評量方式
期中考試(40%)、期末考試(40%)、期末報告(20%)
預修課程
無
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預期每週課後學習時數 |
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Office Hours |
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參考書目 |
教科書： 參考書/教科書
* David Brandon and Wayne D. Kaplan, Microstructural characterization of
materials, Wiley (1999).
* 汪建民, 材料分析,中國材料科學學會 (1998)
* J. C., Vickerman, Surface analysis – the principal techniques, John Wiley &
Sons, England (1997).
* J. Goldstein, Scanning electron microscopy and X-Ray microanalysis, Kluwer
Academic / Plenum
Publishers, New York (2003).
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指定閱讀 |
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評量方式
(僅供參考) |
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週次 |
日期 |
單元主題 |
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第18週 |
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final report |
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