課程資訊
課程名稱
光電材料分析技術
ANALYSIS TECHNIQUES OF OPTOELECTRONICS MATERIALS 
開課學期
98-1 
授課對象
學程  光電科技學程  
授課教師
何志浩 
課號
OE5045 
課程識別碼
941 U0550 
班次
 
學分
全/半年
半年 
必/選修
選修 
上課時間
星期四2,3,4(9:10~12:10) 
上課地點
明達205 
備註
總人數上限:40人 
Ceiba 課程網頁
http://ceiba.ntu.edu.tw/981atoem 
課程簡介影片
 
核心能力關聯
核心能力與課程規劃關聯圖
課程大綱
為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
課程概述

為瞭解光電材料,利用材料分析技術,在奈米尺度上分析具奈米結構與材料的組成、相、微結構,與光譜等分析,並藉此瞭解與製程間的相互關係,更進一步探討其新現象與特性,作為新的工程應用參考。課程目標為瞭解光電材料分析技術之儀器操作原理與分析方法。授課內容包括,
1. 介紹(Introduction)
2. 材料的晶體結構(Crystal structure of materials)
3. 晶體結構分析技術與應力分析技術(X-ray analysis)
4. 顯微結構分析、缺陷分析、組成分析與表面形貌分析(Electron microscopy: SEM and TEM)
5. 表面及界面分析(1.Auger electron spectroscopy, 2.X-ray photoelectron spectroscopy, 3.Secondary ion mass spectroscopy, and 4.Scanning probe microscopy
6光電材料鍵結、結晶結構與應變力分析技術(Raman scattering)
7.光電材料的光激發光譜分析(Photoluminescence)
 

課程目標
 
課程要求
成績評量方式
期中考試(40%)、期末考試(40%)、期末報告(20%)

預修課程

 
預期每週課後學習時數
 
Office Hours
 
參考書目
教科書: 參考書/教科書
* David Brandon and Wayne D. Kaplan, Microstructural characterization of
materials, Wiley (1999).
* 汪建民, 材料分析,中國材料科學學會 (1998)
* J. C., Vickerman, Surface analysis – the principal techniques, John Wiley &
Sons, England (1997).
* J. Goldstein, Scanning electron microscopy and X-Ray microanalysis, Kluwer
Academic / Plenum
Publishers, New York (2003).
 
指定閱讀
 
評量方式
(僅供參考)
   
課程進度
週次
日期
單元主題
第18週
2010/01/19  final report